インライン粒度分布測定法を使用すると、スプレー乾燥アプリケーションでリアルタイムモニタリングが実施できます。
スプレー乾燥プロセスソリューション

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Malvern ® 粒度分布測定機を使用したスプレー乾燥プロセス制御

 

スプレー乾燥中のリアルタイム品質管理は、高い性能の粒度分布測定機を必要とします。
スプレー乾燥中のリアルタイム品質管理は、高い性能の粒度分布測定機を必要とします。

自動プロセス制御とオンラインQCは、高水準のパフォーマンスが必要となります。マルバーンのシステムは設計当初からプロセス用として開発されました。その成功のカギは、プロセスと制御システムの双方に対して強力なインターフェース機能を持つことにより、設置場所を問わないことです。

  • 丈夫で高速な機器
  • 製造バッチ間にサンプルパス全体を洗浄できる衛生的な取付部品
  • 金属粉から医薬品/GAMP4環境まで多様な産業界で使用できる幅広いオプション

粒度分布測定機・ダスト負荷測定機は、様々なスプレー乾燥や噴霧機プロセスによって製造される固体・液体粒子の生産を最適化および連続的にモニターするために使われます。Malvernは、プラント設備を製造する数多くの企業と提携 しており、その会社製のプロセスでMalvern測定機を使うことを推奨していただいております。

インライン粒度分布測定機を利用したサンプルのスプレー乾燥プロセス

下記は様々な分析ソリューションを説明している表です。

環境

測定機

アクセサリ

プロセスインターフェース

用途:

乾式粉体

 

0.1~1000µm, 固定組込み型測定機:

非防爆: Insitec T

防爆: Insitec X


 

様々な自動化オプション

医薬品キットのオプション

 

希釈ストリーム: インラインドライフローセル

 

ノズル速度/フィードの圧力をコントロールする噴霧機/スプレードライヤー排出口

中~高濃度: ジェットストリームエダクタ

オーガー

 

分級機(最終グレード)排出口、最終グレードQC

アットライン: 手動サンプリングアクセサリ
 

一般的な近プロセスQC

  50~2500µm, 固定組込み型測定機

非防爆: Parsum IPP50S


防爆: Parsum IPP50SE

  アナログ4~20mA出力   多様なカスタム測定ゾーンを持つインラインプローブ   洗剤製造におけるスプレー乾燥
 
               

液体媒体中の粒子

 

0.1~1000µm、測定機:

Insitec S

 

 

様々な自動化オプション

 

連続ストリーム: インラインフローセル4Hz 測定

 

分離機の最適化

 

0.1~1000µm、測定機:

Insitec S



  様々な自動化オプション

  各種光学ブリッジ  

ノズルの最適化

プロセスのトラブルシューティング

 

 

0.1~1000µm、可動式測定機:

Insitec Voyager

 

"プラス"パック, (自動化オプション)

非防爆: Insitec T

防爆: Insitec X

医薬品キットのオプション

 

オンライン: ジェットストリームエダクタ

アットライン: 手動サンプリングアクセサリ




 

複数プロセスライン上での噴霧機の設定

一般的なプラントの最適化