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Mie散乱 (レーザー回折)
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レーザーダイオード(波長670 nm)
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10 mm 6 mm 3 mm 1/e2
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1~4 Hz
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散乱率2%~95%のスプレー
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3%(RS-3レファレンス基準レティクル使用)
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0.5%(RS-3レファレンス基準レティクル使用)
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光学部品は、清浄な空気でパージすることにより、測定中に汚染から保護することができます。必要な最小パージエアの供給量は2ft³ /分 - ここには水分や油分がまったく含まれていない必要があります。
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基本, 保護等級IP65(粉じん/噴流水に対する保護。欧州基準)
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Pentium II 300 MHzプロセッサ, 32 Mb RAM, 3GbyteハードディスクおよびCD–ROM. 画面解像度:VGA 800x600 (推奨:SVGA 1024x768) 空きシリアルポート1つ
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Windows 2000
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外部からの影響を受けない測定によって、液滴サイズ分布測定に高濃度のオペレーション用に特許取得済み多重散乱アルゴリズムを利用できます。(米国特許番号 5,619,324). QA/QC用の統計分析
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ユーザ設定が可能なSPCチャート・レポート形式
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1フレーム毎のデータ表示
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Excelその他のスプレッドシートへの直接転送
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送信側モジュール: 5.75 kg. 受信側モジュール: 7.50 kg.
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短いベンチ - 300 mmスプレーギャップ ベンチからレーザーまでの高さ: 250 mm 長いベンチ - 500 mmスプレーギャップ ベンチからレーザーまでの高さ: 250 mm
別料金でベンチのカスタマイズを行っています。料金は材質、仕上げ、サイズによって異なります。
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